Президент NMI Владимир Украинцев представил работу под названием "Challenges of SEM-based critical dimension metrology of interconnect" / "Проблемы сканирующей электронной микроскопии при измерениях критических размеров элементов интерконнект микросхем" на 25-й конференции "Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography", которая проводилась в городе Сан Хосе, штат Калифорния с 27 февраля по 3 марта 2011.